16SepPore array lagerstruktur, förbeläggningsmetod, filmformningsmetod och relat...Tekniska implementeringselement: 3. Utföringsformerna av föreliggande teknologi tillhandahåller en håluppsättningsskiktstruktur, en förbeläggningsmeto
visa mer
16SepHålarraylagerstruktur, förbeläggningsmetod, filmformningsmetod och relaterade...1. Föreliggande teknologi hör till det tekniska området biologisk detektering och avser i synnerhet en håluppsättningsskiktstruktur, en förbeläggnings
visa mer
16SepEtt nanokompositsystem och en metod för att undersöka nanomaterial, tekniska ...Tekniska implementeringselement: 5. Det tekniska problemet som ska lösas med föreliggande uppfinning är: att tillhandahålla ett nanometerintegrerat sy
visa mer
16SepEtt nanokompositsystem och -metod för forskning om nanomaterial1. Föreliggande uppfinning hänför sig till området för vetenskaplig forskningsutrustning på forskningsnivå inom nanovetenskap, och i synnerhet till om
visa mer
16SepFörpackningsstruktur, substrat, förpackningsmetod och processteknikimplemente...Tekniska implementeringselement: 3. Föreliggande teknologi tillhandahåller en förpackningsstruktur, ett substrat och en förpackningsmetod, för att red
visa mer
16SepFörpackningsstruktur, substrat, förpackningsmetod och process1. Föreliggande teknologi hänför sig till området för chipförpackning, och mer specifikt till förpackningsstrukturer, substrat och förpackningsmetoder
visa mer
16SepEn MEMS mikrovärmd platta baserad på sidokomposit dielektrisk film och dess t...Tekniska implementeringselement: 4. Med hänsyn till ovanstående tekniska problem tillhandahåller föreliggande uppfinning en mikrovarm platta av mems b
visa mer
16SepEn sorts MEMS mikrovärmd platta baserad på dielektrisk lateral kompositfilm o...En sorts MEMS mikrovarm platta baserad på tvärgående komposit dielektrisk film och dess tillverkningsmetod tekniskt område 1. Föreliggande uppfinning
visa mer
16SepDe tekniska realiseringselementen för post-CMOS release-metoden för den tvärs...Tekniska implementeringselement: 5. För att lösa problemet med att fullborda strukturfrigöringen under förutsättningen att den är kompatibel med cmos
visa mer
16SepElement för tekniskt genomförande Element av post-CMOS-frisättningsmetod för ...Tekniska implementeringselement: 5. För att lösa problemet med att fullborda strukturfrigöringen under förutsättningen att den är kompatibel med cmos
visa mer
16SepCross-beam känslig struktur post-CMOS release metod för MEMS vektor hydrofonCMOS-frigöringsmetod efter tvärstrålekänslig struktur för memsvektorhydrofon tekniskt område 1. Föreliggande uppfinning avser området halvledare, i sy
visa mer
16SepMetoder för att tillverka system för drift av mikrofluidiska enheter1. Föreliggande teknologi hänför sig generellt till system som använder mikrofluidiska anordningar. Föreliggande teknologi beskriver bland annat syste
visa mer












